基于薄膜元理论的RC低矮剪力墙破坏机理与配筋研究

作     者：王斌 史庆轩 蔡文哲 Wang Bin;Shi Qingxuan;Cai Wenzhe

作者机构：省部共建西部绿色建筑国家重点实验室西安建筑科技大学西安710055 西安建筑科技大学土木工程学院西安710055 

出 版 物：《建筑结构》 (Building Structure)

年 卷 期：2018年第48卷第S2期

页      面：621-628页

学科分类：08[工学] 081402[工学-结构工程] 081304[工学-建筑技术科学] 0813[工学-建筑学] 0814[工学-土木工程] 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51478382) 校人才科技基金(RC1811) 

主　　题：低矮剪力墙 薄膜元理论 破坏机理 横向配筋 配筋形式 

摘      要：采用基于薄膜元理论建立的有限元模型对RC低矮剪力墙的受力行为进行了全过程模拟分析,从应力应变层面阐述了此类构件的损伤演化过程和破坏机理,探讨了配筋率及配筋方式对其受力性能的影响。结果表明:随着剪跨比的减小,剪力墙微元体中剪应力与正应力之比增大,主应力角趋向于45°;随着横向配筋率的提高,弯曲作用明显增强,裂缝宽度和倾角相应减小,在截面尺寸较大时,易发生弯剪破坏,截面尺寸较小时,则往往发生由受拉裂缝引起的剪切滑移破坏。在RC低矮剪力墙设计和加固时,在同等配筋率下宜选择配置斜向支撑以提高墙体的承载力和延性,并改善其破坏形态。