离子束辅助沉积二氧化铪薄膜紫外光学特性研究

作     者：唐义 蒋静 蒋玉蓉 吴慧利 TANG Yi;JIANG Jing;JIANG Yurong;WU Huili

作者机构：北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室北京100081 

出 版 物：《光学技术》 (Optical Technique)

年 卷 期：2015年第41卷第6期

页      面：502-505页

核心收录：

学科分类：070207[理学-光学] 080901[工学-物理电子学] 07[理学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家973计划项目(2013CB329202) 工业技术基础项目(J312012B002) 

主　　题：二氧化铪薄膜 光学常数 离子束辅助沉积 SEM 

摘      要：利用离子束辅助沉积方法制备单层二氧化铪薄膜,对薄膜样品的折射率、吸收特性进行了研究。实验结果表明,薄膜特性与制备工艺参数有着密切的关系,沉积速率、烘烤温度、离子束流、氧气流量均对单层二氧化铪薄膜紫外光学特性有着不同程度的影响。实验分析了不同工艺因素对单层二氧化铪薄膜的影响,并且找到了在一定范围内的最佳工艺参数。针对可能对紫外波段造成较大散射吸收损耗的微观表面形貌,利用SEM分析了典型工艺因素对表面形貌的影响。