硅酸盐溶液中ZL101等离子体电解氧化膜形成过程的研究

作     者：余磊 骆海贺 蔡启舟 魏伯康 Yu Lei;Luo Haihe;Cai Qizhou;Wei Bokang

作者机构：华中科技大学材料成形与模具技术国家重点实验室 

出 版 物：《特种铸造及有色合金》 (Special Casting & Nonferrous Alloys)

年 卷 期：2007年第27卷第8期

页      面：639-642页

核心收录：

学科分类：080503[工学-材料加工工程] 0806[工学-冶金工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0703[理学-化学] 0702[理学-物理学] 

主　　题：等离子体电解氧化 ZL101合金 相组成 形成过程 

摘      要：以硅酸盐溶液为电解液,对ZL101合金进行等离子体电解氧化(PEO)处理,分析膜层的形成过程和膜层的组成和结构。结果表明,PEO初始阶段的膜层分别在初生α相和共晶体上独立形成,Si相上无等离子体放电产生,Si在临近α相的等离子体放电产生高温下氧化,形成SiO2进入膜层。初生α相的膜层以Al2O3为主,含有少量的SiO2。而共晶体的膜层中SiO2含量显著高于Al2O3。ZL101的PEO膜主要成分为γ-Al2O3、α-Al2O3,SiO2及莫来石(3Al2O3.2SiO2)。随着PEO处理时间的增加,γ-Al2O3逐渐向α-Al2O3转化,膜层中α-Al2O3量增加。