电沉积Ni_(80)Fe_(20)/Cu纳米多层膜及其巨磁电阻效应

作     者：张卫国 姜莹 姚素薇 ZHANG Weiguo;JIANG Ying;YAO Suwei

作者机构：天津大学化工学院杉山表面技术研究室天津300072 

出 版 物：《化工学报》 (CIESC Journal)

年 卷 期：2008年第59卷第2期

页      面：503-507页

核心收录：

学科分类：081704[工学-应用化学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

基　　金：国家自然科学基金项目(50071039 50271046) 教育部博士点基金项目(20030056034)~~ 

主　　题：电沉积 多层膜 巨磁电阻 超晶格 NiFe/Cu 

摘      要：采用单槽控电位双脉冲技术在n-Si(111)晶面上制备了[Ni80Fe20/Cu]n多层膜,用SEM观测了多层膜的断面形貌,利用X射线衍射(XRD)表征了多层膜的超晶格结构。采用四探针法研究了多层膜的巨磁电阻(GMR)性能,结果表明,多层膜的GMR值随着Cu层厚度的变化发生周期性振荡,随着NiFe层厚度的增加先增大后减小;当样品结构为[NiFe(1.6nm)/Cu(2.6nm)]80时,GMR值可达6.4%;多层膜的最低饱和磁场仅为750Oe。磁滞回线测试结果表明,反铁磁耦合多层膜具有较小的矩形比,更适宜作为磁头材料。