道南渗析除砷过程影响因素分析
Kinetic analysis of arsenate removal by Donnan dialysis作者机构:省部共建分离膜与膜过程国家重点实验室天津300387 天津工业大学环境与化学工程学院天津300387
出 版 物:《化工学报》 (CIESC Journal)
年 卷 期:2016年第67卷第6期
页 面:2456-2461页
核心收录:
学科分类:083001[工学-环境科学] 0830[工学-环境科学与工程(可授工学、理学、农学学位)] 08[工学]
基 金:国家自然科学基金项目(21206125 51308391 51138008) 天津市自然科学基金项目(14JCQNJC09000) 天津市科技计划项目(14ZCDGSF00128)
摘 要:道南渗析(Donnan dialysis)是电化学势差驱动的选择性膜过程,可用于饮用水中砷酸根离子[As(Ⅴ)]的去除。通过对膜相As(Ⅴ)传质模型中参数的系统分析讨论了As(Ⅴ)膜相自扩散系数、膜对As(Ⅴ)的选择性、膜面积和膜厚度等对道南渗析除砷过程的影响。结果表明,当转速高于200 r·min-1时膜相传质为道南渗析除砷的速率限制步骤。提高膜相自扩散系数、增大膜有效面积、减小膜厚度能同等程度地改善As(Ⅴ)渗析传质效果,但这些参数并不影响道南平衡达到时料液中As(Ⅴ)的残余浓度。改变料液和解吸液的溶液条件直接影响膜相As(Ⅴ)浓度梯度,不仅影响As(Ⅴ)渗析通量,也会改变道南平衡。选择高填充密度的膜组件、及时去除解吸液中富集的As(Ⅴ)是提高道南渗析除砷装置运行效率的有效手段。