反应磁控溅射沉积Ti_xAl_yN_z热控薄膜研究

作     者：李智 崔敬忠 李冠斌 梁耀廷 LI Zhi;CUI Jing-zhong;LI Guan-bin;LIANG Yao-ting

作者机构：兰州物理研究所甘肃兰州730000 

出 版 物：《真空与低温》 (Vacuum and Cryogenics)

年 卷 期：2005年第11卷第1期

页      面：34-39页

学科分类：083002[工学-环境工程] 0830[工学-环境科学与工程（可授工学、理学、农学学位）] 08[工学] 09[农学] 080501[工学-材料物理与化学] 0804[工学-仪器科学与技术] 0903[农学-农业资源与环境] 0816[工学-测绘科学与技术] 081602[工学-摄影测量与遥感] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 081102[工学-检测技术与自动化装置] 0811[工学-控制科学与工程] 

主　　题：磁控溅射沉积 热控 磁控溅射技术 最佳实验条件 XPS分析 光学测试 光学特性 结构特点 溅射制备 磁控反应 薄膜厚度 平衡温度 靶材料 XRD Al靶 热作用 飞行器 Ti 

摘      要：采用反应磁控溅射技术,以Ti和Al为溅射靶材料,Ar和N2为溅射气体,在Al基底上沉积TixAlyNz热控薄膜。优化制备薄膜的最佳实验条件。对薄膜进行XRD、XPS分析及热光学测试,研究了TixAlyNz薄膜的结构特点及热光学特性。结果表明,采用独立Ti、Al靶的磁控反应溅射制备的TixAlyNz热控薄膜,通过控制薄膜厚度与组成,在忽略飞行器内部热作用的条件下其平衡温度为34℃。