电沉积条件对Cu-Ni-W梯度层特征影响的研究
Effect of electrodeposition conditions on characteristics of Cu-Ni-W gradient layer作者机构:华北理工大学冶金与能源学院河北唐山063210 唐山工业职业技术学院河北唐山063299
出 版 物:《功能材料》 (Journal of Functional Materials)
年 卷 期:2018年第49卷第10期
页 面:85-93页
学科分类:08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)]
基 金:国家自然科学基金资助项目(51474088) 河北省自然科学基金资助项目(E2017209239)
主 题:NaCl-KCl-NaF-WO3 熔盐体系 脉冲电流 功能梯度材料
摘 要:在NaCl-KCl-NaF-WO_3熔盐体系中,采用纯W板为阳极,Cu-Ni板为阴极,电沉积制备致密Cu-Ni-W功能梯度材料(FGM);研究熔盐组成、电流波形、电流密度、熔盐温度、电沉积时间等电沉积条件对梯度层特征的影响规律,确定出最佳工艺条件;并对Cu-Ni-W FGM表面成分及断面形貌进行了分析。结果表明,电沉积CuNi-W梯度材料的最佳工艺条件是:熔盐组成摩尔比为n(NaCl)∶n(KCl)∶n(NaF)∶n(WO_3)=0.3385∶0.3385∶0.25∶0.073,电流波形为脉冲电流;电沉积温度为700℃;电流密度为50mA/cm^2;电沉积时间为20min。