用于薄膜沉积的XeCl激基激光器研制
DESIGN OF A NEW XeCl EXCIMER LASER PUMPED BY PULSE DISCHARGE FOR DEPOSITING FILM作者机构：西北工业大学应用物理系西安710072
出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)
年 卷 期：2002年第31卷第9期
页 面：1097-1100页
核心收录：
学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程]
基 金：陕西省自然基金 (2 0 0 1C2 1 )资助项目
主 题：薄膜沉积 XeCl激基激光器 研制 XeCl准分子 预电离 辉光放电 纳秒放电 激光参量 氯化氙
摘 要：以镀制半导体薄膜、巨磁薄膜、金刚石及其它薄膜 ,外延生长及后续的光刻 ,激光与物质的相互作用、等离子体研究为目的 ,设计、研制了脉冲放电激励的XeCl激基激光器 试验结果表明 :激光脉宽 1 8ns,单脉冲能量 1 5 0mJ ,矩形光斑大小 2cm× 1cm ,束散角 3mrad ,最高重复频率 5HZ 与同类激光器相比 ,具有结构简单、造价低廉。
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