氧化钆掺杂氧化铈的分子动力学模拟

作     者：陈云俊 孙毅 刘一志 康高英 CHEN Yunjun;SUN Yi;LIU Yizhi;KANG Gaoying

作者机构：哈尔滨工业大学航天科学与力学系 

出 版 物：《哈尔滨工程大学学报》 (Journal of Harbin Engineering University)

年 卷 期：2012年第33卷第4期

页      面：445-448页

核心收录：

学科分类：07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0807[工学-动力工程及工程热物理] 080501[工学-材料物理与化学] 0827[工学-核科学与技术] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0703[理学-化学] 0802[工学-机械工程] 0825[工学-航空宇航科学与技术] 0811[工学-控制科学与工程] 0801[工学-力学（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(10972066) 

主　　题：氧化钆掺杂氧化铈 分子动力学模拟 晶格结构 扩散系数 

摘      要：为了研究氧化钆掺杂的氧化铈(GDC)在不同掺杂浓度下的晶格变化情况及工作机理,以牛顿第二定律为基础,建立了GDC的微观原子模型,采用分子动力学模拟的方法系统计算了工作状态下的GDC.计算结果显示:随掺杂浓度的增加,GDC晶格常数、O2--O2-最近邻距离不断增加,Ce4+-O2-、Gd3+-O2-最近邻距离却不断减小,且由当前常用的4种势函数计算的晶格构型并无太大差异.在模拟过程中,O2-的扩散系数随掺杂浓度的增加先增大后减小,当氧化钆浓度为8%左右时,扩散系数达到最大.