咨询与建议

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >非蒸发液滴去湿过程中残余膜形成机理 收藏

非蒸发液滴去湿过程中残余膜形成机理

Mechanisms of Non-Evaporative Residual Films after Droplet Receding

作     者:刘乔 陈磊 邓亚骏 王昊 LIU Qiao;CHEN Lei;DENG Ya-Jun;WANG Hao

作者机构:北京大学工学院北京100871 南昌大学理学院南昌330031 

出 版 物:《工程热物理学报》 (Journal of Engineering Thermophysics)

年 卷 期:2018年第39卷第10期

页      面:2280-2283页

核心收录:

学科分类:080701[工学-工程热物理] 08[工学] 0807[工学-动力工程及工程热物理] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0802[工学-机械工程] 0702[理学-物理学] 0801[工学-力学(可授工学、理学学位)] 

基  金:国家重点研发计划(No.2016YFB0600605) 

主  题:残余膜 接触线 去湿 Hamaker常数 分离压 

摘      要:部分浸润的非蒸发液滴在纳米级光滑表面上去湿后会留下纳米厚度的残余膜。本文进一步探究了纳米级残余膜形成和保持稳定的条件。原子力显微镜的测量结果表明残余膜的厚度随液体浸润性的增加而增加,在接触角大于约40°后残余膜难以形成。体系分离压的正负是影响纳米级残余膜稳定性的关键因素,数值模拟的结果与实验结果吻合。

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分