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日本工业气体及特种气体市场概况

作     者:梁国仑 

作者机构:化工部光明化工研究所 

出 版 物:《化工新型材料》 (New Chemical Materials)

年 卷 期:1993年第21卷第8期

页      面:6-11页

核心收录:

学科分类:081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

主  题:特种气体 日本 工业气体 

摘      要:一、工业气体的应用领域目前,工业气体主要用于7个工业部门。1.半导体工业日本半导体制造商不仅制造集成电路芯片,而且还利用这些芯片来制造各种电气设备。1990年,半导体工业用气体中氮气约占70%,主要用于吹扫及作为运载气体。年交付量约11亿 m^3,增长10%。现场装置供气约占氮气供应总量的52%。当集成电路线宽进入亚微米级后,对气体纯度提出更严格要求。1991年8月,NTT 研究与开发中心决定在他们的研究工作中使用7N氮气。对于16MDRAM,IBM 已采用超高纯氮,由帝国氧气公司供应8N 氮气。大阪氧气公司、大同氧气公司均向用户供应8N 氮气。日本氧气公司,Shinyo 氧气公司采用双级精馏设备,向用户提供6~9N 超高纯液氮。

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