咨询与建议

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >中能质子在Si和GaAs中导致的非电离能损研究 收藏

中能质子在Si和GaAs中导致的非电离能损研究

Non-ionizing Energy Loss of Middle Energy Proton in Si and GaAs

作     者:罗文芸 王朝壮 贺新福 樊胜 黄小龙 王传珊 LUO Wen-Yun;WANG Chao-Zhuang;HE Xin-Fu;FAN Sheng;HUANG Xiao-Long;WANG Chuan-Shan

作者机构:上海大学射线应用研究所上海201800 中国原子能科学研究院核物理研究所北京102413 

出 版 物:《高能物理与核物理》 (High Energy Physics and Nuclear Physics)

年 卷 期:2006年第30卷第11期

页      面:1088-1090页

核心收录:

学科分类:08[工学] 0827[工学-核科学与技术] 082701[工学-核能科学与工程] 

基  金:国家自然科学基金(1035021)资助~~ 

主  题:质子 非电离能损  砷化镓 

摘      要:非电离能损(NIEL)引起的位移损伤效应是空间装置失效的原因之一.运用改进的Monte Carlo程序SHIELD,建立了质子的NIEL计算手段,模拟计算了能量范围在10-400MeV的中能质子在硅和砷化镓中的NIEL的大小和分布.

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分