离子束溅射沉积作用下聚四氟乙烯膜的制备和结构分析
Structure Analysis of Teflon Films Synthesized by Ion Beam Sputtering Deposition作者机构：清华大学材料科学与工程系
出 版 物：《功能材料》 (Journal of Functional Materials)
年 卷 期：1997年第28卷第6期
页 面：660-661,655页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：本文首先利用离子束溅射聚四氟乙烯靶材的方法制备了薄膜，进而研究了其结构。由ＸＰＳ的结果可知，所得薄膜主要由ＣＦ２结构组成；由ＦＴＩＲ的结果可知，在１１６９ｃｍ－１和１０８３ｃｍ－１处出现了ＣＦ的最强吸收峰，在７３４ｃｍ－１，６１９ｃｍ－１和５００ｃｍ－１处出现了聚四氟乙烯的特征吸收峰。ＸＰＳ和ＦＴＩＲ的结果是一致的，所得薄膜呈现聚四氟乙烯的结构特征。
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