TiO2薄膜上电沉积四氨基酞菁钴及其表征
Electrodeposition of Cobalt Tetraaminophthalocyanine on TiO_2 Film and its Characterization作者机构：东南大学化学化工学院江苏南京210096 新安江职业技禾学院浙江杭州311600
出 版 物：《材料科学与工程学报》 (Journal of Materials Science and Engineering)
年 卷 期：2008年第26卷第2期
页 面：220-222,196页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：为了寻找酞菁在TiO2上成膜新方式,我们用阳极氧化法在TiO2薄膜上成功制备了四氨基酞菁钴薄膜,对酞菁薄膜进行了SEM,XRD,UV-vis表征,并在成膜前后对四氨基酞菁钴分别进行了电化学性能表征。
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