Al衬底取向与ZnO薄膜织构的关系
Relationship between Crystallographic Orientation of Al Substrate and Texture of ZnO Thin Film作者机构：武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室武汉430081
出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)
年 卷 期：2015年第44卷第5期
页 面：1354-1358页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：以发生了二次再结晶的高纯Al为衬底材料,采用射频磁控溅射法制备了ZnO薄膜。研究了溅射工艺及Al衬底取向对ZnO薄膜的影响,分析了Al衬底取向与ZnO薄膜织构的关系。结果显示,当溅射工艺恰当时,高纯Al衬底上可以制备出晶态ZnO薄膜,但Al衬底的取向对ZnO薄膜的结晶性具有更大的影响。Al衬底的轧面上主要为{100}面织构,沉积的ZnO薄膜主要是{0002}面织构和少量的{112—0}面织构组分。
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