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沉积能量与沉积速率对薄膜生长形貌的影响

Influences of Deposition Energy and Deposition Rate on Growth Morphology of Thin film

作     者:伍达将 唐吉玉 崔婧 刘洋 朱永安 Wu Da-jiang;Tang Ji-yu;Cui Jing;Liu Yang;Zhu Yong-an

作者机构:华南师范大学物理与电信工程学院广州510006 

出 版 物:《功能材料与器件学报》 (Journal of Functional Materials and Devices)

年 卷 期:2014年第20卷第5期

页      面:127-131页

学科分类:08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 

基  金:国家自然科学基金(61271271) 

主  题:沉积能量 沉积速率 粗糙度 填充比 

摘      要:本文利用各向同性的周期性四方形基底,模拟了沉积能量与沉积速率对薄膜三维形貌的影响。模型主要分析了原子沉积、吸附原子扩散和原子脱附三个过程,同时详细地考虑了四方形基底的最近邻和次近邻的影响。结果表明:沉积能量对薄膜粗糙度、衬底填充比、岛的个数都有明显的影响。沉积速率对薄膜粗糙度的影响较小,在低沉积能量下对填充比和岛的个数影响较小,在高沉积能量下对填充比和岛的个数影响较大。在高沉积能量高沉积速率下,为了提高成膜质量,同时保证成膜效率,适当降低沉积速率比适当降低沉积能量更有效。

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