氯化物三价铬电镀液中六价铬离子的去除方法及效果

作     者：胡晓赟 屠振密 李永彦 孙化松 李宁 HU Xiao-yun;TU Zhen-mi;LI Yong-yan;SUN Hua-song;LI Ning

作者机构：哈尔滨工业大学(威海)海洋学院山东威海264209 

出 版 物：《材料保护》 (Materials Protection)

年 卷 期：2009年第42卷第2期

页      面：74-76页

核心收录：

学科分类：081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

主　　题：三价铬电镀 氯化物 六价铬离子 稳定剂 去除 

摘      要：三价铬电镀过程中六价铬离子对镀层质量的影响很大,因此研究电镀过程中六价铬的积累及消除对三价铬电镀液的维护和产品质量保证具有重要意义。研究了氯化物体系三价铬镀液中六价铬的积累规律和相应的改进措施,分别比较了添加剂A(含c=c双键的有机醛类化物)和溴化铵对六价铬生成速度的影响。结果表明,5g/L稳定剂A或溴化铵均能降低六价铬的生成速度。同时采用添加4g/L稳定剂A或溴化铵、过氧化氢还原和1A/dm2小电流电解的方法对六价铬进行去除,经测试效果良好。