Cu掺杂石榴石薄膜中矫顽力提高的机理分析
作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800 中国科学院上海冶金研究所上海200050
出 版 物：《科学通报》 (Chinese Science Bulletin)
年 卷 期：1994年第39卷第7期
页 面：597-600页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：Bi置换石榴石磁光薄膜具有好的结构稳定性和化学稳定性及在短波长具有大的法拉第旋转角,因而成为下一代有希望的磁光记录材料之一.制备石榴石薄膜可采用溅射法,也可采用热分解法.热分解法设备简单,对薄膜的成分易于控制和调节.要获得好的记录畴,要求薄膜在室温下有高的矫顽力.现已报道,添加元素W,Mo,Ba和Cu对提高H_c有效.到目前为止,H_c最高为432kA/m,其矫顽力的提高归因于钉扎效应.
维普期刊数据库
同方期刊数据库