高纯三氧化钨中20种痕量杂质元素的光谱分析
Ments in Hich-purity WO_3 by Spectrographic Analysis
作 者：邱如斌 QIU Ru-bing
作者机构：闽西职业技术学院福建龙岩364021
出 版 物：《龙岩学院学报》 (Journal of Longyan University)
年 卷 期：2005年第23卷第3期
页 面：96-98页
学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070302[理学-分析化学] 0703[理学-化学]
主 题：WO3 光谱法 纯度分析
摘 要：用石墨粉抑制WO3蒸发和用7种载体物质促进杂质元素蒸发以及增强谱线强度的效果,选择了最佳的载体和光谱测定条件,一次摄谱同时测定高纯WO3中20种杂质元素。
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