NiFe/Cu和NiFe/Mo多层膜的界面结构与巨磁电阻
INTERFACE STRUCTURE AND GIANT MAGNETORESISTANCE IN NiFe/Cu AND NiFe/Mo MULTILAYERS作者机构：首都师范大学 加拿大阿尔伯特大学 国家非晶微晶合金工程技术研究中心
出 版 物：《材料研究学报》 (Chinese Journal of Materials Research)
年 卷 期：1999年第13卷第2期
页 面：153-157页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
主 题：NiFe/Cu 多层膜 NiFe/Mo 巨磁电阻 界面结构
摘 要：用磁控溅射方法制备了NiFe／Cu和NiFe／Mo多层膜.测量了厚度不同的Cu层和Mo层多层膜的磁性和磁电阻，并用电镜分析了部分NiFe／Cu多层膜样品测量到NiFe／Cu多层膜的室温巨磁电阻随Cu层厚度振荡的第一、二、三峰而在NiFe/Mo多层膜中未发现巨磁电阻效应讨论了多层膜的界面结构对巨磁电阻效应的影响.
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