硅片表面球形粒子散射研究
Calculation of Light Scattering from a Spherical Particle on a Silicon Wafer作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所 中国科学院研究生院北京100039
出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)
年 卷 期：2006年第35卷第4期
页 面：517-520页
核心收录：
学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学]
基 金：上海市第三期光科技项目(编号:036105026)资助
摘 要：为求解硅片表面微小粒子在任意线偏振平面入射光照射下的散射光光强分布,选择了基于Mie散射的杨氏模型为依据,推导了该模型下散射光强空间分布的计算方法,并给出了0.54μm球形粒子在垂直、倾斜入射下光强空间分布的模拟计算结果,以及入射平面第一象限内散射光强与国外已发表实验结果的比较·
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