氧气氛退火对TiO_2薄膜结构和成分的影响
Effect of Annealing in Oxygen Atmosphere on Structure and Composition of TiO_2 Films作者机构：四川大学辐射物理与技术国家教育部重点实验室成都610064 中国科学院国际材料中心沈阳110015
出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)
年 卷 期：2009年第38卷第S1期
页 面：17-20页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：国家自然科学基金委员会"重点学术期刊专项基金"(No.50131010) 总装预研基金(JG2006047)资助
摘 要：采用电子束蒸发在硅衬底上制备TiO2薄膜,并在氧气氛下进行退火处理。分别使用X射线衍射仪和椭圆偏振仪分析退火前后以及不同退火温度下薄膜样品的结构、成分和折射率,研究氧气氛下进行退火对薄膜结构、成分和折射率的影响。结果表明:氧气氛下退火能够有效地改善薄膜缺氧的问题,提高TiO2薄膜的质量。
维普期刊数据库
同方期刊数据库