磁控溅射制备银掺杂ZnO薄膜结构及光电性质研究
Structural,Optical and Electrical Properties of ZnO∶Ag Films Fabricated by Magnetron Sputtering作者机构：长安大学材料科学与工程学院西安710064 长安大学高性能路面国际合作研究中心西安710064
出 版 物：《材料导报》 (Materials Reports)
年 卷 期：2010年第24卷第24期
页 面：13-16页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：利用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了银掺杂ZnO薄膜,通过改变制备条件生长了一系列样品,样品退火后呈现p型导电特性。测量了样品的结构特性、光学性质和电学性质,实验表明薄膜厚度与淀积时间、溅射功率分别呈近似线性关系;薄膜晶体质量随溅射功率、背景气压的增加而降低;退火过程是银元素形成受主的重要环节,且退火能有效提高薄膜晶体质量,改善薄膜的光学性质和电学性质。分析了这些影响的机理和来源。
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