低混杂波电流驱动下注入杂质的输运
INJECTED IMPURITY TRANSPORT DURING LHCD作者机构:核工业西南物理研究院成都610041
出 版 物:《核聚变与等离子体物理》 (Nuclear Fusion and Plasma Physics)
年 卷 期:1999年第19卷第4期
页 面:207-212页
核心收录:
学科分类:08[工学] 082701[工学-核能科学与工程] 0827[工学-核科学与技术]
摘 要:在欧姆放电和低混杂波电流驱动条件下,应用激光吹气技术注入金属杂质,用真空紫外谱仪测量了杂质线的辐射,给出了HL-1M 装置欧姆等离子体和低混杂波电流驱动等离子体杂质输运的研究结果。用杂质输运程序LBO进行数值模拟,得出了等离子体中杂质的扩散系数D(r) 和对流速度v(r)。在低混杂波电流驱动条件下,等离子体杂质的输运系数相对欧姆放电等离子体杂质的输运系数减小了50% 左右。结果表明,在HL-1M