利用导波耦合角度实时控制光刻胶光栅掩模的占宽比

作     者：林华 李立峰 曾理江 Lin Hua;Li Lifeng;Zeng Lijiang

作者机构：清华大学精密仪器系精密测试技术及仪器国家重点实验室北京100084 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2006年第26卷第5期

页      面：767-772页

核心收录：

学科分类：0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家863计划资助课题 

主　　题：物理光学 光刻胶光栅 光栅波导 占宽比 实时监控技术 

摘      要：研究一种控制多层介质膜上的光刻胶光栅掩模占宽比(线宽与周期之比)的新方法。该方法基于下面的原理:如果某泄漏模在包层中的隐失尾较强,那么它的等效折射率受光刻胶光栅占宽比变化的影响就大,从而可以利用耦合角度来实时控制光栅占宽比。在光栅制作的显影阶段,采用实时监测技术,根据耦合角度和占宽比之间的关系预设入射光角度,在出现共振反常的时刻停止显影来控制占宽比。实验结果表明,固定适当的入射角度可以得到特定的占宽比;改变入射角度,占宽比按照预计的规律变化,因此定性地验证了这种占宽比控制方法的可行性。文中给出了监控装置和具体的实验方法,并讨论了误差来源和影响。