反应磁控溅射法直接制备光催化纳米TiO_2薄膜
Photocatalytic TiO_2 Thin Films Directly Prepared by Reactive Magnetron Sputtering作者机构：大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室辽宁大连116024 上海宝钢集团钢铁研究院上海200050
出 版 物：《中国表面工程》 (China Surface Engineering)
年 卷 期：2012年第25卷第4期
页 面：56-61页
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
主 题：TiO2薄膜 反应磁控溅射 锐钛矿 氧浓度 光催化效应
摘 要：通过优化直流反应磁控溅射沉积工艺,在氩气和氧气气氛中溅射高纯钛靶,在玻璃和不锈钢衬底上直接低温沉积出具有锐钛矿结构的TiO2薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和表面轮廓仪分析发现,当氧的体积分数在5%～20%之间变化时,制得的TiO2薄膜是致密的锐钛矿结构,具有典型的锐钛矿相(101)、(004)、(112)、(211)、(220)的晶面特征峰,薄膜的晶粒尺寸随着氧含量的增加逐渐减小,其生长速率最快可达到68nm/min。在紫外光的照射下分解甲基橙实验表明,所制备的薄膜具有良好的光催化分解有机物的能力。
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