基于光谱相似性度量的光谱成像干扰效果定量评估

作     者：高卫 孙奕帆 孙鹏 党东妮 

作者机构：北京跟踪与通信技术研究所北京100094 

出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)

年 卷 期：2015年第44卷第12期

页      面：57-63页

核心收录：

学科分类：11[军事学] 080904[工学-电磁场与微波技术] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 110503[军事学-军事通信学] 0810[工学-信息与通信工程] 1105[军事学-军队指挥学] 1104[军事学-战术学] 082601[工学-武器系统与运用工程] 081105[工学-导航、制导与控制] 0826[工学-兵器科学与技术] 081001[工学-通信与信息系统] 081002[工学-信号与信息处理] 0811[工学-控制科学与工程] 

基　　金：试验技术研究重点项目(No.BZ-000-1-1102)资助~~ 

主　　题：光谱成像 干扰效果评估 光谱相似性 光谱距离 伪装 

摘      要：利用一种宽波段伪装网和超光谱成像仪进行了光谱成像伪装干扰试验,基于实施干扰前后光谱图像数据光谱特性的变化,利用光谱相似性度量指标,提出了一种用于评估光谱成像干扰效果的光谱距离准则,结合光谱成像伪装干扰试验结果,对该准则的适用性进行了验证分析.结果表明,在试验条件下,有效伪装区光谱图像像元在伪装前后光谱向量之间的光谱距离可达0.14~0.5,具体幅值大小因伪装前的目标特性、伪装网层数、超光谱成像仪增益等因素而异,而非伪装区和无效伪装区光谱图像像元的光谱距离都在0.05以下,可见在对目标实施有效的伪装干扰前后,伪装区像元的光谱距离通常会显著大于非伪装区,而且伪装效果越显著,光谱距离就越大.因此,光谱距离可以定量反映干扰对像元光谱特性的影响,并能鉴别不同干扰效果之间的细微差别,所以可用于定量、客观评估光谱成像干扰效果.