龋坏组织表面负电位及其形成机理的初步探讨
作者机构：第四军医大学口腔医学院预防科710032 第四军医大学口腔医学院基础部化学教研室710032
出 版 物：《华西口腔医学杂志》 (West China Journal of Stomatology)
年 卷 期：1999年第17卷第3期
页 面：284-285页
核心收录：
学科分类：1003[医学-口腔医学] 100302[医学-口腔临床医学] 10[医学]
摘 要：龋病是口腔常见病和多发病,菌斑是龋病的重要致病因子.黄力子[1]研究认为:龋病发生和发展的过程不只是酸扩散、渗透,引起牙釉质脱矿的化学过程,而是一种电化学腐蚀过程,与牙齿表面菌斑的氧化还原电位的变化密切相关.并通过实验发现:龋坏组织表面的电位低于同一患者口内正常牙齿表面的电位.本文旨在对引起龋坏组织表面电位变化的原因进行研究,并探讨这种电位变化对龋病发病的意义.
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