浸渍炭中铜氧化物的XPS研究

作     者：胡玉良 刘国宏 周晓东 韩万飞 温维丽 王娜 HU Yu-liang;LIU Guo-hong;ZHOU Xiao-dong;HAN Wan-fei;WEN Wei-li;WANG Na

作者机构：陆军防化学院北京102205 山西新华化工有限责任公司山西太原030008 

出 版 物：《广州化工》 (GuangZhou Chemical Industry)

年 卷 期：2018年第46卷第7期

页      面：73-76页

学科分类：081704[工学-应用化学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

主　　题：浸渍炭 X射线光电子能谱 铜氧化物 深度剖析 氢氰酸 氯化氰 

摘      要：通过制备单一组分的铜浸渍炭(Cu-AC),应用X射线光电子能谱(XPS)分析技术研究浸渍炭中铜氧化物的化学态及其随深度的变化。结果表明:浸渍炭表面的Cu主要以CuO化学态存在,内部主要以Cu_2O化学态存在;浸渍炭防护HCN的反应在其表面和内部同时发生,而对ClCN的防毒作用主要在浸渍炭的表面进行。本研究为调控浸渍炭的制备工艺和生产条件提供参考,进一步提高防护性能、保证产品质量稳定。