一种双波段成像系统的红外通道杂散光分析

作     者：王伟丽 吕勇 李晓英 牛春晖 Wang Weili;Lyu Yong;Li Xiaoying;Niu Chunhui

作者机构：北京信息科技大学仪器科学与光电工程学院北京100192 

出 版 物：《应用光学》 (Journal of Applied Optics)

年 卷 期：2018年第39卷第2期

页      面：262-267页

核心收录：

学科分类：080904[工学-电磁场与微波技术] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 0702[理学-物理学] 

基　　金：北京市教委科研计划项目(KM201511232005 KM201311232006 SQKM201211232007) 

主　　题：成像系统 红外通道 杂散光 红外辐射 

摘      要：为全面分析杂散光对红外系统成像质量的影响,设计了可见波段0.4μm^0.7μm、红外波段3μm^5μm,视场角均为2.27°×2.27°的共孔径成像光学系统。分析了杂散光来源,分别研究了带内与带外杂散光对其红外通道成像质量的影响。对于带内杂散光,设计了消杂光结构,采用FRED软件模拟分析了带内杂光抑制能力,结果表明:带内杂散光得到较好抑制,其鬼像影响可忽略不计,太阳杂散光抑制水平PST达到设定的10-8阈值量级。对于带外杂散光,主要研究了1.064μm和2.6μm两个波长带外激光对红外成像系统的影响,并利用有限元仿真计算,结果表明:系统反射镜温升达到703K时,向外发出较强带内红外辐射,到达像面的辐射功率为0.195mW,可对红外成像面造成强烈噪声干扰。