能量过滤磁控溅射技术制备叠层TiO_2薄膜的光催化性能

作     者：夏雨 吴丹 赵遵杰 姚宁 潘志峰 XIA Yu;WU Dan;ZHAO Zunj ie;YAO Ning;PAN Zhifeng

作者机构：郑州大学物理工程学院河南郑州450052 

出 版 物：《郑州大学学报（理学版）》 (Journal of Zhengzhou University:Natural Science Edition)

年 卷 期：2017年第49卷第4期

页      面：61-65页

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：河南省重点科技攻关计划项目(152102210038) 

主　　题：能量过滤磁控溅射 直流磁控溅射 光催化 Ti O2薄膜 

摘      要：叠层TiO_2薄膜可提高薄膜的比表面积,从而提高薄膜的光催化效率.利用直流磁控溅射(DMS)和能量过滤磁控溅射(EFMS)技术分别制备了单层和叠层TiO_2薄膜,并利用X射线衍射、扫描电镜、椭圆偏振光谱仪和紫外-可见分光光度计分析了薄膜的结构、形貌、光学特性和光催化性能.研究表明:与单层TiO_2薄膜相比,叠层TiO_2薄膜的晶粒尺寸更小、表面更加平整、光学带隙增大,紫外光照射2.5 h后,其对Rh B溶液的光催化降解率为41.2%,为单层TiO_2薄膜的2.4倍.