磁控溅射用于细微颗粒涂镀功能薄膜的新技术

作     者：Peter J Kelly David Sawtell Glen T West May Azzawi Asima Farooq Marina Ratova Peter J Kelly;David Sawtell;Glen T West;May Azzawi;Asima Farooq;Marina Ratova

作者机构：英国曼彻斯特城市大学科学与工程学院英国曼彻斯特M15GD 

出 版 物：《辽宁科技大学学报》 (Journal of University of Science and Technology Liaoning)

年 卷 期：2017年第40卷第2期

页      面：126-132页

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

主　　题：功能薄膜 磁控溅射 粒子沉积 振动 

摘      要：磁控溅射是一项成熟的技术,可用在各种基体上沉积高质量金属及陶瓷涂层。然而,此项技术一般并不适于涂镀微粒粒度为nm或μm到100μm的细微粒涂层。本文详述了一种可涂镀微粒粒径在上述范围的均匀功能薄膜的技术。在磁场下面安放的一个碗状容器内放有微粒子,容器可以振动可使粒子均匀地振出碗边沉落到真空腔,薄膜沉积工艺为反应或非反应脉冲磁控溅射。Ti,Ti O2,Sn及Sn O2从单磁场源沉积,而Bi/W的氧化物从双磁场源沉积。用SEM,TEM和EDX,以及其它与应用相关的技术表征所沉积的微粒,以表明此项技术的潜在功能。