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刻槽结构高功率微波输出窗次级电子倍增效应

Investigation on multipactor of high-power microwave window with grooves

作     者:张慧博 杨建华 程国新 李国林 舒挺 Zhang Huibo;Yang Jianhua;Cheng Guoxin;Li Guolin;Shu Ting

作者机构:国防科学技术大学光电科学与工程学院长沙410073 

出 版 物:《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期:2013年第4卷第5期

页      面:1189-1194页

核心收录:

学科分类:080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 

基  金:国家自然科学基金项目(61101028) 

主  题:高功率微波 输出窗 次级电子倍增 矩形刻槽 

摘      要:从理论上分析了周期性矩形刻槽对喇叭天线输出窗真空侧次级电子倍增的影响。采用动力学方法分析得到电子沿介质窗表面运动的渡越时间和碰撞能量,验证得到一定尺寸的矩形刻槽介质窗可以有效抑制次级电子倍增效应。在此情况下,对比了刻槽和不刻槽两种输出窗的辐射特性,发现周期2mm、宽度1mm、深度1mm的矩形刻槽对介质窗辐射特性的影响可以忽略。

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