面向等离子体高能合成射流应用的重频脉冲源研制
Repetitive Pulsed Generator for High-energy Plasma Synthetic Jet作者机构：中国科学院电工研究所 中国科学院大学 国防科学技术大学航天科学与工程学院
出 版 物：《高电压技术》 (High Voltage Engineering)
年 卷 期：2017年第43卷第9期
页 面：3093-3099页
核心收录：
学科分类：0810[工学-信息与通信工程] 08[工学] 081001[工学-通信与信息系统]
主 题：流动控制 等离子体合成射流 激励器 放电电容 脉冲源 纹影系统
摘 要：等离子体合成射流是高速流场控制的一种重要手段,而高重频、大能量的等离子体合成射流可以产生更好的流动控制效果。为此研制了一台可实现高重频等离子体高能合成射流的脉冲电源,输出参数为:电压幅值010k V,重复频率01000 Hz可调,脉宽15μs,放电电流峰值320 A,放电能量超过150 m J。首先,对脉冲源的拓扑结构进行了设计,对其工作原理进行了说明。其次研究了放电电容对于输出波形的影响,并在高重频条件下进行了放电特性和能量特性分析。最后,利用纹影系统观察了射流流场的发展过程。实验结果表明:高重频条件下输出电压稳定性良好;随着放电电容的增大,放电持续时间延长,放电电流增大,放电能量增加;此外,纹影系统观测表明合成射流速度可达150 m/s。该电源可应用于流动控制领域。
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