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铌酸锶钡薄膜的微结构与电光性能的研究

Microstructure and Electrooptical Properties of Strontium Barium Niobate Thin Film

作     者:叶辉 Melanie M T Ho Mak C L 

作者机构:浙江大学现代光学仪器国家重点实验室杭州310027 香港理工大学应用物理系及材料研究中心 

出 版 物:《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期:2002年第22卷第10期

页      面:1170-1175页

核心收录:

学科分类:08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0803[工学-光学工程] 

基  金:浙江省自然科学基金 (5 0 0 0 77)资助课题 

主  题:铌酸锶钡薄膜 微结构 电光性能 光纤通信 

摘      要:本文叙述了使用溶胶凝胶法在MgO(0 0 1)的衬底上制备铌酸锶钡薄膜的过程 ,膜层厚度可达 5 μm。通过X射线衍射、摇摆曲线、扫描、拉曼散射光谱等方法研究了薄膜的微结构性能 ,实验发现 ,铌酸锶钡薄膜具有了较好的 (0 0 1)方向的优先取向性能 ,并且随着薄膜厚度的增加 ,其晶体取向性也会随之不断改进。熔石英的透明衬底上生长的SBN薄膜具有较大的电致双折射效应 ,其有效电光系数能够高达 6 6 2× 10 -11m/V。

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