碳化硼薄膜的激光法制备及性能

作     者：王淑云 陆益敏 刘旭 黄国俊 郭延龙 万强 田方涛 Wang Shuyun;Lu Yimin;Liu Xu;Huang Guojun;Guo Yanlong;Wan Qiang;Tian Fangtao

作者机构：武汉军械士官学校光电技术研究所武汉430075 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2013年第4卷第4期

页      面：895-897页

核心收录：

学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程] 

主　　题：激光沉积 碳化硼薄膜 透过率 硬度 增透膜 

摘      要：采用KrF准分子激光器,在Si,Ge光学衬底上制备了碳化硼薄膜,研究了不同激光能量、靶材与衬底距离、衬底负偏压等条件对薄膜性能的影响。利用傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)和纳米压痕仪,并依据光学薄膜测试的通用标准,对样品的光学透过率、纳米硬度及膜层与衬底的结合性能进行了测试。结果表明:Si,Ge衬底单面镀碳化硼薄膜后最高透过率提高10%以上,纳米硬度提高到未镀膜的3倍以上,且膜层与衬底有较好的结合性能,表明制备的碳化硼薄膜可对光学材料起到较好的增透保护作用。