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PSII技术中考虑靶表面二次电子发射的等离子体鞘层演变

DEVELOPMENT OF THE PLASMA SHEATH WITH SECONDARY ELECTRON EMISSION IN PSII

作     者:童洪辉 

作者机构:核工业西南物理研究院 

出 版 物:《核聚变与等离子体物理》 (Nuclear Fusion and Plasma Physics)

年 卷 期:1995年第15卷第3期

页      面:53-57页

核心收录:

学科分类:07[理学] 070204[理学-等离子体物理] 0702[理学-物理学] 

主  题:二次电子发射 鞘层演变 等离子体源 离子注入 

摘      要:本文建立了PSII技术中靶表面有二次电子发射的等离子体鞘层演变平板模型。在某些简化下,对随时间变化的鞘层边界位置和速度作了计算。计算表明,靶表面二次电子发射对鞘层演变影响很小,可忽略不计,这跟实验是相符的。

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