193nm投影光刻物镜光机系统关键技术研究进展

作     者：张德福 李显凌 芮大为 李朋志 东立剑 张建国 

作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心长春130033 中国科学院大学北京100049 

出 版 物：《中国科学：技术科学》 (Scientia Sinica(Technologica))

年 卷 期：2017年第47卷第6期

页      面：565-581页

核心收录：

学科分类：0810[工学-信息与通信工程] 08[工学] 0839[工学-网络空间安全] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0802[工学-机械工程] 0811[工学-控制科学与工程] 0812[工学-计算机科学与技术（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家自然科学基金(批准号:61504142) 国家科技重大专项基金(批准号:2009ZX02205)资助项目 

主　　题：集成电路 光刻 投影物镜 波像差 调节机构 主动光学 

摘      要：结合双/多曝光的193nm投影光刻是未来5~10年大规模集成电路工业化生产的主要方法.投影物镜作为光刻机的核心分系统,其光机系统关键技术的研究进展直接影响物镜整体性能的提升.本文分析了当前集成电路装备制造业对193nm投影物镜的需求,阐述了曝光系统设计、光学元件被动支撑、位姿调节、主动变形、元件更换和系统数值孔径调节等物镜光机系统关键技术研究现状,提炼了阻碍物镜未来发展的关键科学技术问题.目前,193nm光刻物镜尚需进一步阐明高阶热像差的产生机理和校正策略,解决多自由度位姿标定问题,形成完备的物镜研制方法,指导高成像质量物镜的制造.