氩气对MPCVD制备纳米金刚石薄膜的影响

作     者：任昱霖 张田田 黄宏伟 付秋明 马志斌 REN Yu-lin;ZHANG Tian-tian;HUANG Hong-wei;FU Qiu-ming;MA Zhi-bin

作者机构：武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室武汉430073 

出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)

年 卷 期：2017年第46卷第4期

页      面：657-661页

核心收录：

学科分类：081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

基　　金：国家自然科学基金(11575134) 

主　　题：纳米金刚石 MPCVD微波等离子体 光学性质 氩气浓度 

摘      要：纳米金刚石(NCD)在精密机械、光学真空窗口等领域具有广泛的应用。利用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)以乙醇、氩气和氢气为气源,通过改变氩气浓度探究氩气对NCD膜光学性质的影响,利用扫描电子显微镜(SEM)、Raman光谱、X射线衍射仪(XRD)和红外光谱对不同氩气浓度沉积的薄膜的结构、成分和性质进行表征。结果表明,随着氩气浓度升高,NCD膜表面粗糙度降低,同时金刚石的纯度下降,在此作用下,NCD膜的透光性随氩气浓度先升高后降。