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CuO-SiO2和Cu2O-SiO2薄膜的制备及其光学性能

Preparation and Optical Properties of CuO-SiO_2 and Cu_2O-SiO_2 Films

作     者:辜敏 陈应龙 吴亚珍 GU Min;CHEN Ying-Long;WU Ya-Zhen

作者机构:煤矿灾害动力学与控制国家重点实验室重庆大学资源及环境科学学院重庆400044 

出 版 物:《无机化学学报》 (Chinese Journal of Inorganic Chemistry)

年 卷 期:2017年第33卷第4期

页      面:576-582页

核心收录:

学科分类:07[理学] 0703[理学-化学] 070301[理学-无机化学] 

基  金:国家重点基础研究发展规划项目(No.2014CB239204) 煤矿灾害动力学与控制国家重点实验室自主项目(No.2011DA105287-ZD201202)资助 

主  题:电化学-溶胶凝胶 热处理 氧化铜-二氧化硅 氧化亚铜-二氧化硅 复合薄膜 光学带隙 三阶非线性光学 

摘      要:以CuSO_4·5H_2O和正硅酸乙酯为前驱体,配制了稳定透明的Cu^(2+)-SiO_2复合溶胶电解液。采用电化学-溶胶凝胶方法,在恒电位-0.9 V下得到Cu-SiO_2复合膜,该复合薄膜分别在250和450℃的热处理后得到Cu_2O-SiO_2和CuO-SiO_2复合薄膜。采用XRD、SEM/EDX和台阶仪表征了复合薄膜的组成、形貌和厚度;采用紫外-可见光谱和Z扫描技术研究了复合薄膜的线性和三阶非线性光学性能。结果表明Cu2O-SiO_2和CuO-SiO_2复合薄膜中的Cu含量、Cu的形态(如Cu_2O、CuO)及Cu_2O或CuO颗粒大小影响薄膜的光学带隙和三阶非线性光学性能,2种薄膜的光学带隙分别是2.67和2.54 eV,三阶非线性极化率χ(3)分别为2.31×10^(-6)和1.36×10^(-6) esu。

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