物理气相沉积硬质涂层技术进展
Development for hard coatings by physical vapour deposition technology作者机构：核工业西南物理研究院四川成都610041
出 版 物：《金属热处理》 (Heat Treatment of Metals)
年 卷 期：2008年第33卷第1期
页 面：91-93页
核心收录：
学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
主 题：物理气相沉积(PVD) 硬质涂层
摘 要：概要介绍了离子镀、磁控溅射、离子束辅助沉积和复合沉积技术的原理和优缺点,并指出了这些技术近年在制备硬质涂层的发展。
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