电镀铂/金的金电极上As(Ⅲ)电化学行为的电化学石英晶体微天平研究
An Eletrochemical Quatrz Crystal Microbalance Study on Electrochemical Behavior of As(Ⅲ) at Au/Au and Pt/Au Electrodes作者机构:湖南师范大学化学生物学及中药分析教育部重点实验室化学化工学院
出 版 物:《分析化学》 (Chinese Journal of Analytical Chemistry)
年 卷 期:2011年第39卷第7期
页 面:978-984页
核心收录:
学科分类:081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070302[理学-分析化学] 0703[理学-化学]
基 金:国家自然科学基金(No.90713018,21075036) 国家水处理专项(No.2009ZX07212-001-06)资助课题
主 题:镀铂金电极 镀金金电极 电化学石英晶体微天平 As(Ⅲ)电化学
摘 要:采用电化学石英晶体微天平(EQCM)技术研究了Britton-Robinson(B-R,pH=1.8~11.2)缓冲溶液和H2SO4介质中电镀铂/金的金电极上As(Ⅲ)的循环伏安行为。通过实时监测EQCM频率等参数的变化过程并利用预电沉积As(0)放大电极响应信号,考察了两电极上As(0)的电沉积、As(Ⅲ)和As(Ⅲ)组分的吸附特性以及As组分电化学行为的pH依赖性。主要结论如下:(1)As(0)在两电极表面均可电沉积,但在镀铂金电极上更明显,且足量电沉积的As(0)的电氧化过程出现外/内层As(0)依次氧化的两个电流峰;(2)As(Ⅲ)在镀铂电极上可强烈吸附,且被氧化成As(Ⅲ)时解吸,而镀金电极上As(Ⅲ)和As(Ⅲ)的吸附能力均很弱;(3)在pH=1.8的B-R缓冲溶液和0.1 mol/L H2SO4介质中,镀铂/金电极上As(Ⅲ)的电催化氧化电流趋于最大。通过As(Ⅲ)在镀铂/金电极上的吸附预富集和随后的电催化氧化溶出,提出了高敏检测As(Ⅲ)的线性扫描伏安法,检测灵敏度提高约40倍。