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抑制褪色光度法测定痕量铜

Spectrophotometric Determination of Trace Copper by Suppression Decolourization

作     者:朱国辉 蔡维平 Zhu Guohui;Cai Weiping

作者机构:厦门 361005 厦门大学化学系 漳州 363000 漳州师范学院化学系 

出 版 物:《分析化学》 (Chinese Journal of Analytical Chemistry)

年 卷 期:1999年第27卷第5期

页      面:574-577页

核心收录:

学科分类:081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070302[理学-分析化学] 0703[理学-化学] 

主  题: 乙基紫 褪色反应 

摘      要:在氨水与F~-存在下,痕量Cu对过氧化氢氧化乙基紫的褪色反应有抑制作用,由此建立了一种高灵敏度(间接摩尔吸光系数ε=1.5×10~6L·mol·cm分光光度测定痕量铜的方法。测量范围为0~2.0×10mg/L Cu。用于试样中铜的分析,结果令人满意。

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