采用准分子激光退火的室温沉积ITiO薄膜的性能研究

作     者：沈奕 姚若河 SHEN Yi;YAO Ruo-he

作者机构：华南理工大学电子与信息学院广东广州510000 汕头超声显示器有限公司广东汕头515041 

出 版 物：《功能材料》 (Journal of Functional Materials)

年 卷 期：2013年第44卷第21期

页      面：3146-3148页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：广东省第二批战略性新兴产业发展专项资金资助项目(2011912008) 

主　　题：掺Ti氧化铟 室温沉积 激光退火 

摘      要：采用室温磁控溅射的方法在玻璃衬底上沉积掺Ti氧化铟薄膜，并在真空中采用XeCl准分子激光进行退火，样品的光学、电学性能、相结构分别采用分光光度计、霍尔效应测试仪和X射线衍射仪进行测试。结果表明，功率为100～150mJ／cm^2的准分子激光照射可以使薄膜由无定形态转变为结晶态，激活所掺杂的Ti原子，降低薄膜的电阻率；增大退火功率还可以进一步降低载流子浓度，提高薄膜的透过率。经150mJ／cm^2准分子激光退火的掺Ti氧化铟薄膜，其电阻率为6．93×10^-4Ω·cm，透过率达到了88．4％。