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光学光刻的极限

出版物：《电子工业专用设备》 (Equipment for Electronic Products Manufacturing)

年卷期：1999年第1期

页面：55-60页

主　　题：镜头芯片尺寸倍率数值孔径视场光学光刻技术光栅扫描抗蚀剂掩模台极限

摘要：光学光刻是３０年来ＩＣ生产中作图技术的主要工艺方法。抗蚀剂和光学系统方面的迅猛发展和惊人进步，已超前于更复杂的替代方法的应用。这种替代还将继续多久？采用变换镜头和系统的各种途径表明，光学光刻技术仍有发展的余地。光学光刻的极限将延伸到１００ｎｍ以下，接近７０～８０ｎｍ。

本地馆藏 |

1、借阅数量：每证可借书6册，期刊2册，团体读者证可借书刊300册。 2、借阅时间：个人借期为30天，每本书可续借1次，借期为30天；团体借期为90天。 3、归还地点：3楼服务台、自助借还设备、还书箱、各分馆 4、馆际互借：读者未能在本馆获取所需文献资料，可至参考咨询阅览室服务台填写《南通市图书馆馆际互借读者申请表》，根据馆际互借协议，我馆将为读者向其他馆代借文献。馆际互借过程中所产生的费用（资料复印、邮寄费等），由读者个人承担。 5、服务电话续借：59003605 59003606 咨询：81100100 59003600

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