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低温Si(111)-7×7表面Pb纳米薄膜的生长模式与沉积速率的依赖关系

Dependence of Growth-mode and Deposition-rate of Pb Tthin Nano-films Growth on the Surface of Low Temperature Si(111)-7×7

作     者:周杰 朱鸿斌 ZHOU Jie;ZHU Hongbin

作者机构:中国科学技术大学物理系 

出 版 物:《低温物理学报》 (Low Temperature Physical Letters)

年 卷 期:2016年第38卷第5期

页      面:56-61页

学科分类:08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 

主  题:金属薄膜 外延生长 沉积速率 

摘      要:本文利用超高真空腔室中的分子束外延手段在低温Si(111)衬底上外延生长Pb纳米薄膜.分析了不同沉积速率下Pb纳米薄膜的尺寸、台阶高度等参数变化情况,研究了不同条件下薄膜的形貌特性,并据此提出Pb纳米薄膜在不同沉积速率下的生长模式差异.

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