拼接干涉技术在同步辐射领域的发展现状及趋势

作     者：刘丁枭 盛伟繁 王秋实 李明 LIU Ding-xiao SHENG Wei-fan WANG Qiu-shi LIMing

作者机构：中国科学院高能物理研究所北京同步辐射装置X射线光学与技术实验室北京100049 

出 版 物：《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)

年 卷 期：2016年第24卷第10期

页      面：2357-2369页

核心收录：

学科分类：08[工学] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：国家自然科学基金青年基金资助项目(No.11005123) 

主　　题：光学元件 面形检测 拼接干涉术 同步辐射 综述 

摘      要：针对同步辐射领域光学元件的口径逐渐增大,其面形测量精度的要求已达到纳弧度级的问题,本文研究了该领域先进的面形测量方法——拼接干涉技术,以实现光学元件的高分辨率二维测量。介绍了拼接干涉技术的基本原理,综述了目前同步辐射光学领域常用的面形测量设备——激光光束长程面形仪、高精度自准直纳米测量仪,以及拼接干涉仪的发展历程和特点,比较了它们各自的缺点和优势。最后,分析了拼接干涉涉及的主要误差来源,指出该技术的应用和发展趋势主要有拼接算法的创新,干涉仪测量的快速化,拼接干涉仪的商业化,以及拼接干涉技术与其他科学技术的融合等。