自辐射场下UO_3分子光谱研究

作     者：谢安东 谢晶 周玲玲 伍冬兰 阮文 罗文浪 XIE An-Dong;XIE Jing;ZHOU Ling-Ling;WU Dong-Lan;RUAN Wen;LUO Wen-Lang

作者机构：井冈山大学数理学院吉安343009 西安科技大学电气与控制工程学院西安710054 

出 版 物：《原子与分子物理学报》 (Journal of Atomic and Molecular Physics)

年 卷 期：2016年第33卷第6期

页      面：989-992页

核心收录：

学科分类：07[理学] 070203[理学-原子与分子物理] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金(11264020 11364023) 

主　　题：UO3 自辐射场 光谱 

摘      要：铀原子和氧原子分别使用相对论有效原子实势（Relativistic Effective Core Potential）和6-311＋G（d）基组,采用优选的密度泛函B3P86方法,研究了铀本身产生自辐射场（-0.005～0.005 a.u.）作用下UO_3基态分子的最高占据轨道（HOMO）能级EH、最低空轨道（LUMO）能级EL、能隙Eg、费米能级FL和谐振频率ν.结果表明：UO_3分子在自辐射场中的谐振频率ν2（b1）、ν3（a1）、ν4（a1）和ν6（b2）与实验值151.5 cm-1、186.2 cm-1、745.7cm-1和852.6 cm-1基本吻合.EH随自辐射场的增加而减少,EL随自辐射场的增加而增大,Eg始终处于增大的趋势,费米能级FL上升,占据轨道的电子难以被激发至空轨道而形成激发态,UO_3分子在自辐射场中更趋于稳定,可以阻止O_2、H2等扩散到表面内层而腐蚀铀表面,有利于了铀在自辐射场中抗腐蚀.