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论釉的形成过程和某些长石质瓷釉缺陷的根源

作     者:K·Teuchert 王振林 

出 版 物:《中国陶瓷》 (China Ceramics)

年 卷 期:1983年第4期

页      面:57-62页

主  题:方石英 残余 针孔 硅氧矿物 低倍缺陷(金属) 瓷釉 岛状硅酸盐矿物 莫来石 长石质 形成过程 

摘      要:一、前言日用瓷的质量常因制造工艺过程所引起的釉面缺陷受到损害。最常见的缺陷是针孔和秃釉(epoxsed body),二者不是归因于制坯或釉的操作不当,就是归因于釉料球磨过细。甚至在适中放大倍数的显微镜下,几乎

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