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论釉的形成过程和某些长石质瓷釉缺陷的根源

作者：K·Teuchert 王振林

出版物：《中国陶瓷》 (China Ceramics)

年卷期：1983年第4期

页面：57-62页

主　　题：方石英残余针孔硅氧矿物低倍缺陷(金属) 瓷釉岛状硅酸盐矿物莫来石长石质形成过程

摘要：一、前言日用瓷的质量常因制造工艺过程所引起的釉面缺陷受到损害。最常见的缺陷是针孔和秃釉(epoxsed body),二者不是归因于制坯或釉的操作不当,就是归因于釉料球磨过细。甚至在适中放大倍数的显微镜下,几乎

本地馆藏 |

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