在透明衬底上制取高效率GaAsP发光二极管

作     者：W.L.Snyder 

作者机构：美国休利特-帕卡德公司 

出 版 物：《发光学报》 (Chinese Journal of Luminescence)

年 卷 期：1975年第5期

页      面：12-12页

主　　题：GaAsP GaP 发光二极管 结型发光器件 衬底 基片 

摘      要：市售的GaAsP发光二级管所发出的光仅占其内部所产生光量的2～4％。效率低的部分原因是由于光被较小的带隙过渡区和衬底所吸收。假如GaAsP生长在透明衬底上,从而使衬底和过渡区具有比GaAsP发射区更宽的带隙,则外量子效率可获得显著的提高。原则上诸如尖晶石、蓝宝石、GaP以及带隙比发光GaAsP更大的GaAsP材料都可用作衬底。虽然对于后两种材料都进行过研究, 但本文的结果都是用GaP作衬底制作的器件所得到的。 所研究过的第一种结构是在GaP(100)衬底上生长GaAs0.6P0.4。外延层组分从衬底的GaP开始逐渐变化到GaAs0.6P0.4,紧接着再生长5μ恒定组分的GaAs0.6P0.4。器件的几何构造是采用Zn扩散和光刻腐蚀的p-n结台面,顶部是Al欧姆接触,底部是能反射光的欧姆接触。然后经过锯割或划片把片子分成小块,由于GaAs0.6P0.4是直接带发射体。恒定组分区p-n结所产